其技术挑战在于，如何通过精确控制溅射工艺参数（如氧气分压、功率、基底温度），在基底上稳定地沉积出化学计量比可控、结晶质量良好的氧化亚锡薄膜，并保持其p型特性不被后续工艺破坏。围绕氧化亚锡靶材的“技术支持”，其…...
