双翌光电开发的亚微米晶圆曝光对准应用软件，融合了亚像素定位、高斯拟合、相位匹配等先进算法，能将图像识别精度推进至0.3微米（即300纳米），在半导体制造中确保每一层电路图案与前一层完美对齐，在先进封装中支撑…...
