华芯晶电申请基于流体压力的磷化铟晶圆衬底清洗控制方法专利，实现了晶圆清洗过程中晶格状态的实时监测与损伤风险识别#华芯微电子公司如何

国家知识产权局信息显示，青岛华芯晶电科技有限公司申请一项名为“基于流体压力的磷化铟晶圆衬底清洗控制方法”的专利，公开号CN121925053A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本发明公开了基于流体压力的磷化铟晶圆衬底清洗控制方法及系统，涉及半导体材料加工技术领域。该方法包括：获取不同晶向上的基准晶格响应速率、恢复速率与畸变可逆范围阈值；清洗过程中实时测量各区域的流体冲击压力和晶格应变值，生成实时晶格响应速率；间歇性降压测量实时晶格恢复速率；将实时速率与基准速率比对生成响应偏差和恢复偏差，据此识别晶格损伤风险区域；对风险区域的晶格应变值经偏差修正后与阈值比对，对非风险区域直接比对，生成各区域临界可逆压力；根据各区域临界压力输出面向不同晶向的动态压力调控基准。本发明实现了晶圆清洗过程中晶格状态的实时监测与损伤风险识别，为差异化压力调控提供了精准基准。

天眼查资料显示，青岛华芯晶电科技有限公司，成立于2011年，位于青岛市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本7848.0954万人民币。通过天眼查大数据分析，青岛华芯晶电科技有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目8次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息136条，此外企业还拥有行政许可22个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。