ULVAC 爱发科 HR60 多级罗茨高温工艺干式真空泵介绍
HR60整机外观
HR60实拍
一、产品概述
HR60 是 ULVAC HR 系列小型高温防腐型多级罗茨干泵，专为半导体蚀刻、CVD、ALD 等易产生升华粉尘、腐蚀性卤素气体的严苛工艺开发；全泵体恒温均热（≈150℃），全程无油干式压缩，避免工艺副产物冷凝结垢堵泵，是半导体前级主力工艺泵，对标 LR60 洁净泵、MS120 螺杆泵差异化选型。
二、核心技术参数（50Hz 工况）
表格
三、五大核心产品优势
- 全段高温均热防凝堵
- 整泵多级腔体恒温加热，CVD / 刻蚀产生的升华粉末、卤化物副产物全程气态排出，不会冷凝黏附泵腔，大幅减少拆机保养频次（LR 系列无高温加热，易凝粉堵泵）。
- 强耐腐蚀特殊涂层
- 转子、泵腔内壁做高硬度防腐钝化处理，耐受 Cl、F、Br 等卤素强酸气体，适配干法刻蚀、等离子去胶腐蚀工况。
- 屏蔽氦封电机 + 零返油
- 全封闭屏蔽电机 + 轴端氦气密封，齿轮润滑油与真空腔体完全隔离，无润滑油返流污染腔体，满足芯片高纯洁净制程要求。
- 电网瞬停防护
- 内置 1000ms 瞬时断电保护，突发闪断避免工艺倒灌、腔体污染，适配 24h 连续量产产线。
- 工业智能通讯
- 标配串口通讯，可远程读取运行电流、温度、报警履历，接入产线 PLC 集中监控运维。
四、适用工艺 & 行业
1、半导体晶圆（主力场景）
干法蚀刻、PECVD/LPCVD 薄膜沉积、等离子灰化、ALD 原子层沉积、化合物半导体制程前级抽气。
2、光电 / 面板
OLED 刻蚀、薄膜沉积、等离子清洗设备前级泵。
3、精细化工
腐蚀性溶剂蒸馏、含升华物真空合成、特种材料真空烧结
