证券日报网讯 8月13日，路维光电在互动平台回答投资者提问时表示，在相移掩膜版PSM领域，公司于2021年完成衰减型相移掩膜版（ATTPSM）工艺技术研发并通过内部测试，2023年量产MetalMesh用PSM掩膜版，CF用PSM产品于2024年通过客户验证并量产，公司于2024年完成单层衰减型PSM掩膜版制造技术及MoSi系双层PSM掩膜版制造技术研发；2025年实现G6、G8.5TFT-Array用单层衰减型PSM客户导入及量产，实现i-line的半导体PSM客户导入。后续进展请关注公司公告。
（编辑 任世碧）
