国家知识产权局信息显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“版图的LEF图形处理方法”的专利，公开号CN122595970A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明提供了一种版图的LEF图形处理方法，包括：S1：将LEF图形分割成多个矩形区域块；S2：对各矩形区域块和引脚分别进行编号，依次查找每个矩形区域块接触的引脚，并记录矩形区域块编号和对应的引脚编号；S3：依次查找与每个引脚编号对应的矩形区域块编号，判断同一引脚编号对应的矩形区域块的数量是否等于2且这两个矩形区域块是否接触，如果是，则将矩形区域块筛选出来作为第一类矩形区域块，并执行步骤S4，如果不是，则作为第二类矩形区域块，并则执行步骤S5；S4：将同一引脚对应的矩形区域块合并为一个矩形区域块；S5：对邻近的第二类矩形区域块进行合并。本发明提高了布局布线工具对矩形图形的识别度。
天眼查资料显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2046092.7759万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目931次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息7899条，此外企业还拥有行政许可464个。
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