国家知识产权局信息显示，艾华（无锡）半导体科技有限公司申请一项名为“一种改善ALD膜厚均匀性的工艺”的专利，公开号CN121915385A，申请日期为2025年12月。通过天眼查大数据分析，艾华（无锡）半导体…...
