序号 专利名称 专利类型 法律状态 申请号 申请日期 公开(公告)号 公开(公告)日期 发明人 1 衬套及沉积系统 发明专利 公布CN202610652436.1 2026-05-12 CN122358…...
人民财讯6月29日电，近日，捷佳伟创自主研发的专用高精度掩膜喷墨打印设备正式交付国内头部晶硅光伏企业。该设备专为BC电池背面Poly层图形化工艺定制，替代传统激光开槽、干膜光刻方案，实现BC电池钝化层精细化图…...
