微导纳米取得物质输送系统相关专利,四阀切换实现化学物质高效输送供膜沉积(微导纳米科技股份有限公司招聘) ypxx.net

7月25日消息,国家知识产权局信息显示,江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“一种化学物质输送系统及方法”的专利,授权公告号CN116837348B,授权公告日为2026年7月24日。申请公布号为CN116837348A,申请号为CN202310783458.8,申请公布日期为2026年7月24日,申请日期为2023年6月28日,发明人龚炳建、许所昌、侯永刚,专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司,专利代理师王宝筠,分类号C23C16/448、C23C16/52。

专利摘要显示,本申请提供一种化学物质输送系统及方法,载气进气口通过第一载气支路与汽化器连接,载气进气口通过第二载气支路分别与第一和第二阀门连接;第一阀门连接前级管路,第二阀门连接反应腔体;汽化器通过液体化学物质输送管路,与液体化学物质输送系统连接;汽化器通过薄膜沉积管路分别与第三和第四阀门连接;第三阀门连接前级管路,第四阀门连接反应腔体;第一阀门和第四阀门用于在输送化学蒸汽时开启,在进行吹扫时关闭;第二阀门和第三阀门用于在进行吹扫时开启,在输送化学蒸汽时关闭。从而本申请通过四个阀门之间的快速切换,可快速将大量化学物质输入反应腔,满足微观结构复杂的薄膜沉积的需求。

微导纳米是国内原子层沉积(ALD)设备领域领军企业,专注高端薄膜沉积装备研发,具备全产业链技术壁垒。公司成立于2015年12月25日,于2022年12月23日登陆上海证券交易所,注册及办公地点均位于江苏省无锡市。

公司以ALD技术为核心,聚焦先进微、纳米级薄膜沉积技术和设备的研究与产业化应用,为光伏、集成电路、柔性电子等半导体与泛半导体行业提供高端装备与技术解决方案,申万行业分类隶属于电力设备-光伏设备-光伏加工设备,同时覆盖集成电路、存储概念、半导体设备等热门概念板块。

2025年,微导纳米实现营业收入26.33亿元,在12家同行业可比公司中排名第9,低于行业平均56.11亿元、行业中位数45.56亿元,同期行业营收前两位分别为捷佳伟创154.72亿元、晶盛机电113.57亿元;营收结构中光伏设备贡献15.91亿元占比60.43%,半导体设备贡献8.81亿元占比33.45%,配套产品及服务贡献1.44亿元占比5.47%,其余业务合计占比不足1%。同期公司实现净利润2.19亿元,行业排名第7,低于行业平均5.17亿元、行业中位数2.96亿元,行业净利润前两位分别为捷佳伟创26.18亿元、晶盛机电8.59亿元。

指标类别 具体指标 数值/详情
营收表现 2025年营业收入 26.33亿元(行业排名9/12)
营收表现 行业营收第一名 捷佳伟创154.72亿元
营收表现 行业营收第二名 晶盛机电113.57亿元
营收表现 行业营收平均数 56.11亿元
营收表现 行业营收中位数 45.56亿元
营收结构 光伏设备 15.91亿元,占比60.43%
营收结构 半导体设备 8.81亿元,占比33.45%
营收结构 配套产品及服务 1.44亿元,占比5.47%
营收结构 其他 1431.86万元,占比0.54%
营收结构 其他(补充) 268.01万元,占比0.10%
净利润表现 2025年净利润 2.19亿元(行业排名7/12)
净利润表现 行业净利润第一名 捷佳伟创26.18亿元
净利润表现 行业净利润第二名 晶盛机电8.59亿元
净利润表现 行业净利润平均数 5.17亿元
净利润表现 行业净利润中位数 2.96亿元

江苏微导纳米科技股份有限公司近期专利情况如下:

序号 专利名称 专利类型 法律状态 申请号 申请日期 公开(公告)号 公开(公告)日期 发明人
1 衬套及沉积系统 发明专利 公布 CN202610652436.1 2026-05-12 CN122358169A 2026-07-10 王宗林、周芸福、赵婷婷、陈刚、王国超
2 工艺腔室及沉积设备 发明专利 公布 CN202610652469.6 2026-05-12 CN122358158A 2026-07-10 程堂杰、吴晗
3 一种成膜设备、成膜设备的进气装置及成膜设备的喷淋板 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610492020.8 2026-04-15 CN122013155A 2026-05-12 杨世蒙、宋广华、尤宇文
4 喷淋板、处理设备和喷淋板孔型调整方法 发明专利 公布 CN202610491865.5 2026-04-14 CN122382537A 2026-07-14 侯彬、荒见淳一、沈寒旸
5 一种升降针的检测方法及相关装置 发明专利 公布 CN202610458284.1 2026-04-08 CN122358148A 2026-07-10 柴智、李新
6 靶材结构和磁控溅射设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610443065.6 2026-04-03 CN122214800A 2026-06-16 白展逢、籍伟杰、张鹤、汤亚东、黎微明
7 混气机构、反应装置以及半导体薄膜沉积设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610442872.6 2026-04-03 CN122235689A 2026-06-19 李新、柴智、赵婷婷、李振、张义明
8 溅射设备和溅射方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610443120.1 2026-04-03 CN122303811A 2026-06-30 张鹤、邓晚、白展逢、籍伟杰、汤亚东、黎微明
9 混气机构、反应装置以及半导体薄膜沉积设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610442880.0 2026-04-03 CN122327187A 2026-07-03 柴智、李新、赵婷婷、李振、张义明
10 靶材结构及其磁控溅射方法和磁控溅射设备 发明专利 公布 CN202610442296.5 2026-04-03 CN122358132A 2026-07-10 白展逢、籍伟杰、张鹤、任壮
11 功能层、钙钛矿太阳能电池及其制备方法 发明专利 授权 CN202610426169.6 2026-04-02 CN121968868B 2026-06-16 隋玉洁、王娟、姚俊、闻佳、袁红霞、李翔
12 用于钙钛矿太阳能电池的电子传输层、钙钛矿太阳能电池及其制备方法 发明专利 公布 CN202610435571.0 2026-04-02 CN122458595A 2026-07-24 闻佳、黎微明、隋玉洁、袁红霞、李翔
13 一种激光加工系统以及激光指向性偏移的补偿方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610377175.7 2026-03-25 CN122125355A 2026-06-02 朱涵
14 一种片材缺陷检测系统及方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610377183.1 2026-03-25 CN122341174A 2026-07-03 韩明新、陈哲、隋浩然、李登辉
15 温度调节装置以及镀膜设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610321903.2 2026-03-16 CN122235698A 2026-06-19 安超、荒见淳一
16 温度调节装置以及镀膜设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610321907.0 2026-03-16 CN122235699A 2026-06-19 安超、荒见淳一
17 进气装置和反应设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610312792.9 2026-03-12 CN122105370A 2026-05-29 柴智、赵学
18 基片及其制备方法和半导体器件 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610300638.X 2026-03-12 CN122318743A 2026-06-30 赵光辉、马洪宝
19 顶针结构、加热盘及薄膜沉积设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610312763.2 2026-03-12 CN122318810A 2026-06-30 柴智
20 晶圆异常的检测方法及半导体设备 发明专利 公布 CN202610312664.4 2026-03-12 CN122421154A 2026-07-17 林英浩
21 一种基片上下料机构、基片上下料方法、装置和介质 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610255303.0 2026-03-03 CN122121607A 2026-05-29 严大、汤宋波
22 一种硅片取放机构及导片系统 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610214766.2 2026-02-13 CN122028688A 2026-05-12 杨世蒙、李海生、宋广华
23 用于半导体薄膜处理设备的配气组件和半导体薄膜处理设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610214730.4 2026-02-13 CN122013152A 2026-05-12 衡德正、智顺华、徐康、阮昊、王国超
24 半导体薄膜处理设备和半导体薄膜沉积方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610214783.6 2026-02-13 CN122013153A 2026-05-12 智顺华、衡德正、徐康、阮昊、王国超
25 半导体薄膜处理设备和半导体薄膜处理方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610214804.4 2026-02-13 CN122128689A 2026-06-02 智顺华、衡德正、王国超、徐康、阮昊
26 用于半导体薄膜处理设备的配气组件、半导体薄膜处理设备及其处理方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610214736.1 2026-02-13 CN122147285A 2026-06-05 衡德正、智顺华、徐康、阮昊、王国超
27 一种载片舟流转设备、基片处理系统和载片舟流转方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610163864.8 2026-02-04 CN121985771A 2026-05-05 严大、汤宋波
28 一种喷淋装置及沉积镀膜设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610131881.3 2026-01-29 CN121915386A 2026-04-24 施述鹏、廖宝臣
29 载具、镀膜设备及其控制方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202610076563.1 2026-01-20 CN121610764A 2026-03-06 李挺、余乐怡
30 喷淋机构及薄膜沉积设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202512059928.8 2025-12-31 CN121593033A 2026-03-03 李宏岩、张鹤、赵昂璧
31 喷淋机构及其检测系统 发明专利 公布 CN202512059363.3 2025-12-31 CN121629365A 2026-03-10 贾松霖、张鹤、李宏岩、左敏
32 半导体器件及其制备方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511999077.9 2025-12-26 CN121793662A 2026-04-03 李翔、王娟、江诗聪、袁红霞、姚俊、李鹏、杨蕾
33 防污染角阀、角阀改造方法及沉积设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511983364.0 2025-12-25 CN121737683A 2026-03-27 毛文瑞、荒见淳一、赵婷婷
34 一种半导体薄膜沉积设备的反应腔和半导体薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511942447.5 2025-12-22 CN121826658A 2026-04-10 衡德正、智顺华、徐康、阮昊、王国超
35 加热盘机构及薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511948067.2 2025-12-22 CN121826668A 2026-04-10 许允昕、周芸福、王宗林
36 一种抽气组件和半导体薄膜沉积设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511935884.4 2025-12-19 CN121781271A 2026-04-03 常晓娜、王天宇、安超、叶长松、张晶、刘松涛、王国超
37 一种半导体薄膜沉积设备的反应腔和半导体薄膜沉积设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511935874.0 2025-12-19 CN121781109A 2026-04-03 叶长松、常晓娜、张晶、刘松涛、王天宇、安超
38 半导体加热盘的装配方法和半导体工艺腔室 发明专利 公布 CN202511923577.4 2025-12-18 CN121653612A 2026-03-13 周瑞、周芸福
39 反应装置、半导体薄膜沉积方法和半导体薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511922972.0 2025-12-18 CN121653610A 2026-03-13 安超、王天宇、王炫罡
40 反应腔室及薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511923368.X 2025-12-18 CN121674937A 2026-03-17 周芸福、黎微明、周瑞、王国超、王晴
41 支撑机构、反应装置和半导体薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511923203.2 2025-12-18 CN121843456A 2026-04-10 李森、常晓娜、叶长松、张晶、刘松涛
42 一种顶针结构、升降机构及薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511923315.8 2025-12-18 CN121843483A 2026-04-10 王新征、侯永刚
43 承载支架和晶圆处理装置 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511923339.3 2025-12-18 CN121865892A 2026-04-14 周峰、柴智、石帅、张义明
44 气路装置、气路控制方法、反应装置及薄膜沉积设备 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511923451.7 2025-12-18 CN121854755A 2026-04-14 张棋凯、龚炳建
45 薄膜晶体管及薄膜晶体管沟道层的制备方法 发明专利 实质审查的生效、公布 CN202511912959.7 2025-12-17 CN121865666A 2026-04-14 李向远、许所昌
46 管路系统、管路控制方法及薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511902157.8 2025-12-16 CN121826650A 2026-04-10 邹天顺、龚炳建
47 反应装置、进气通道吹扫方法和半导体薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511902518.9 2025-12-16 CN121826655A 2026-04-10 邹天顺、龚炳建
48 测试装置、测试方法及升降机构 发明专利 公布 CN202511902280.X 2025-12-16 CN121829901A 2026-04-10 陈鹏、周芸福
49 一种抽气构件和半导体薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511902553.0 2025-12-16 CN121826645A 2026-04-10 常晓娜、王天宇、安超、叶长松、张晶、刘松涛
50 ALD薄膜沉积方法及装置和ALD薄膜沉积设备 发明专利 公布 CN202511902512.1 2025-12-16 CN121826654A 2026-04-10 许所昌、李向远