国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司取得一项名为“沉积掩模”的专利，授权公告号CN224105916U，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，一种沉积掩模包括：掩模基底，包括中心区域和边缘区域；多个单元图案，设置在所述掩模基底上并且包括设置在所述边缘区域中的单元图案以及设置在所述中心区域中的单元图案；以及掩模框架，设置在所述掩模基底上并且围绕所述多个单元图案，其中，设置在所述边缘区域中的所述单元图案之中的每所述边缘区域的单位面积的单元图案的数量大于设置在所述中心区域中的所述单元图案之中的每所述中心区域的单位面积的单元图案的数量。
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