9月8日，英特尔代工（Intel Foundry）与光刻机巨头ASML宣布扩大战略合作，共同加速高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻技术的产业就绪。英特尔透露，其高NA EUV工具已经累计处理了超过100万片晶圆，覆盖早期工具认证测试、研发以及英特尔酷睿Ultra系列3处理器（代号Panther Lake）特定层的量产。这一合作标志着高NA EUV技术正在从研发阶段加速走向大规模量产，英特尔代工正在积极追赶台积电和三星在先进制程领域的领先地位。
高NA EUV是EUV光刻技术的下一代演进，通过将光学系统的数值孔径（NA）从0.33提升到0.55，能够实现更高的分辨率，支持2纳米及以下更先进制程的量产。EUV光刻技术采用13.5纳米的极紫外光，是当前7纳米以下先进制程的核心技术。然而，随着制程节点向2纳米、1.4纳米推进，传统的0.33 NA EUV已经接近分辨率极限，需要通过多重曝光等复杂工艺来实现更小的特征尺寸，这增加了工艺复杂度和制造成本。高NA EUV通过更大的数值孔径，单次曝光就能实现更高的分辨率，大大减少了多重曝光的需求，提升了生产效率，降低了制造成本。ASML是全球唯一能够制造EUV光刻机的公司，其高NA EUV光刻机单台售价超过4亿美元，是半导体行业最昂贵、最精密的设备。台积电、三星、英特尔三大晶圆代工厂都在积极布局高NA EUV，争夺2纳米及以下先进制程的竞争优势。
英特尔代工与ASML的合作，表明英特尔正在高NA EUV领域积极追赶。英特尔近年来在先进制程领域落后于台积电，10纳米、7纳米制程的延期和良率问题，使得英特尔在先进制程代工市场的份额不断下滑。为了扭转这一局面，英特尔提出了"IDM 2.0"战略，大力发展代工业务，投入巨资研发先进制程和先进封装技术。高NA EUV是英特尔2纳米（Intel 18A）及以下制程的关键技术，英特尔是最早导入高NA EUV的厂商之一，在美国俄勒冈州的D1X工厂安装了首台高NA EUV光刻机进行研发。此次透露高NA EUV工具已经累计处理超过100万片晶圆，表明英特尔在高NA EUV的工艺开发和量产准备方面取得了重要进展。100万片晶圆的处理量涵盖了早期工具认证测试、研发以及特定层的量产，这意味着高NA EUV工具在英特尔工厂中已经稳定运行，工艺成熟度不断提升。特别是英特尔酷睿Ultra系列3处理器（Panther Lake）已经在特定层使用高NA EUV进行量产，这是高NA EUV技术首次在量产产品中得到应用，具有里程碑意义。
英特尔代工与ASML扩大合作，对全球半导体产业格局将产生重要影响。首先，它加剧了先进制程领域的竞争。目前台积电在2纳米及以下先进制程领域处于领先地位，计划2025年量产2纳米，2027年量产1.4纳米。三星也在积极追赶，3纳米GAA工艺已经量产，2纳米工艺正在研发中。英特尔如果能够借助高NA EUV实现18A（相当于2纳米）及以下制程的顺利量产，将打破台积电在先进制程领域的一家独大局面，形成台积电、三星、英特尔三足鼎立的竞争格局，这对整个半导体行业的健康发展是有利的。其次，它推动了高NA EUV技术的成熟和普及。英特尔作为高NA EUV的早期采用者，其工艺开发和量产经验将为高NA EUV技术的成熟做出重要贡献，也为其他厂商采用高NA EUV提供了参考。ASML与英特尔的合作，将加速高NA EUV工具的优化和迭代，推动高NA EUV技术从研发走向大规模量产。第三，它对美国半导体制造业的复兴具有重要意义。英特尔是美国最大的半导体制造商，其先进制程的进展关系到美国半导体制造业的竞争力。高NA EUV的量产应用，将有助于英特尔提升先进制程能力，吸引更多客户选择英特尔代工，推动美国半导体制造业的复兴。
当然，英特尔代工在高NA EUV和先进制程领域仍然面临不少挑战。首先是工艺良率的问题。高NA EUV是一项全新的技术，工艺开发难度大，良率提升需要时间。英特尔需要在短时间内实现高NA EUV工艺的高良率量产，才能在先进制程竞争中占据有利地位。其次是客户获取的问题。代工业务的成功不仅取决于技术能力，还取决于客户的信任和订单。英特尔代工需要吸引更多的大客户，才能实现规模效应和盈利。目前英特尔代工已经获得了高通、联发科等客户的部分订单，但与台积电相比还有很大差距。第三是资金投入的问题。先进制程和高NA EUV的研发需要巨额资金投入，英特尔近年来资本开支居高不下，这对公司的财务状况造成了压力。英特尔需要在技术投入和财务健康之间找到平衡。业内人士认为，英特尔代工与ASML合作加速高NA EUV，已处理超100万片晶圆，是英特尔先进制程发展的重要进展，表明英特尔在高NA EUV工艺开发和量产准备方面正在加速追赶。高NA EUV作为2纳米及以下先进制程的核心技术，其量产应用将深刻影响全球半导体产业格局。英特尔如果能够成功实现高NA EUV的大规模量产，将有望扭转在先进制程领域的落后局面，重新成为先进制程代工市场的重要竞争者。当然，英特尔也面临良率、客户、资金等多方面的挑战，需要持续投入和努力。未来几年，高NA EUV的量产应用将是全球半导体产业的重要看点，台积电、三星、英特尔三大代工厂在这一领域的竞争将决定先进制程市场的格局。高NA EUV时代正在加速到来，谁能率先掌握这一技术，谁就能在下一代半导体竞争中占据主动。英特尔的积极追赶，让这场竞争更加精彩，也为整个半导体行业的发展注入了新的活力。
